光學微電子凈化工程

光學微電子凈化工程之界定

為將一定室內(nèi)空間范疇內(nèi)之空氣中的浮塵顆粒、危害氣體、病菌等之空氣污染物清除，并將房間內(nèi)之溫度濕度、潔凈度等級、房間內(nèi)工作壓力、氣旋速度氣旋遍布、噪聲振動及照明燈具、靜電感應操縱在某一要求范疇內(nèi)，而所給于非常設計方案之密閉空間。

光學微電子凈化工程一般包含

1、清潔廠區(qū)

2、清潔輔助間（包含工作人員清潔用地、原材料清潔專室和一部分日常生活專室等）

3、工業(yè)園區(qū)（包含辦公室、值勤、管理方法和歇息等）

4、機器設備區(qū)（包含空調(diào)凈化系統(tǒng)應用、電氣設備用地、工業(yè)純水和高純度氣用地、熱冷機器設備用地）

光學微電子凈化工程解決方案

凈化工程的設計過程中，應提升對光學微電子制造行業(yè)凈化工程方案設計剖析掌握,依據(jù)該工程項目是在建工程項目或是是舊工業(yè)廠房改建工程，并融合其實際的生產(chǎn)工藝流程、生產(chǎn)工藝流程等規(guī)定明確其必須的潔凈度等級、溫度濕度。再依據(jù)該工程項目的詳細情況，另外也要充分考慮生產(chǎn)商的經(jīng)濟發(fā)展承受力，綜合性多種要素來明確選用哪種清潔計劃方案，那樣才可設計方案出一個能考慮招標方生產(chǎn)制造應用規(guī)定、工程預算有效、經(jīng)濟發(fā)展環(huán)保節(jié)能好用的計劃方案。

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